MH Niobium Target Purity Grader Tilgængelig
99,95 % (4N) Niobium-mål
● Ultra-høj renhed med ekstremt få metalliske og gasformige urenheder
● Stabilt plasma, lav partikeldannelse
● Velegnet til halvledere, superledende og elektroniske-avancerede film
99,9 % (3N) Niobium-mål
● Høj renhed med fremragende omkostnings-ydelsesforhold
● Pålidelig sputterstabilitet til industrielle belægningsapplikationer
● Velegnet til generelle elektroniske, optiske og funktionelle belægninger
MH Niobium målformer
Vi leverer niobiummål i flere geometrier for at matche forskellige sputtersystemer:
Rektangulært / kvadratisk mål
● Plane sputtersystemer
● Magnetronsputteringskatoder
● Ensartet filmaflejring i stort-område
Rørformet mål
● Roterende sputtersystemer
● Højere måludnyttelsesgrad
● Forbedret belægningsensartethed og produktionseffektivitet
(Brugerdefinerede dimensioner og limningsmuligheder tilgængelige efter anmodning.)
MH Niobium målspecifikationsområde
|
Renhed |
99.9%, 99.95% |
|
Tæthed |
Større end eller lig med 99,9 % af teoretisk tæthed |
|
Kornstruktur |
Fin og ensartet |
|
Overfladefinish |
Ra0,4 |
|
Rektangulært / kvadratisk mål |
Længde mindre end eller lig med 3000 mm, bredde mindre end eller lig med 800 mm, tykkelse (mm) 1~20 mm |
|
Rørformet mål |
Udvendig diameter 10-400mm, Væg 2-28mm |
99,95 % vs. 99,9 % – Valgvejledning
|
Punkt |
99,95 % Nb-mål |
99,9 % Nb-mål |
|
Renhedsniveau |
Ultra-høj renhed (4N) |
Høj renhed (3N) |
|
Urenhedsindhold |
Ekstremt lavt |
Lav |
|
Filmkvalitet |
Højeste ensartethed og stabilitet |
Stabil, industriel-kvalitet |
|
Partikelgenerering |
Minimal |
Lav |
|
Typiske applikationer |
Halvleder, superledende film, R&D |
Optiske belægninger, funktionelle film, masseproduktion |
|
Omkostningsniveau |
Højere |
Mere økonomisk |
Rektangulært vs rørformet mål – Valgvejledning
|
Sammenligning |
Rektangulært / kvadratisk mål |
Rørformet mål |
|
Proceskompatibilitet |
Planar sputtering, Magnetron Sputtering |
Cylindrisk sputtering |
|
Materialeudnyttelse |
20%~30% |
70%~85% |
|
Anskaffelsesomkostninger |
Moderat |
Meget højere end plademål |
|
Produktionseffektivitet |
Små partier, multi-belægninger |
Store partier og kontinuerlige belægninger |
|
Overfladebehandling |
Finslibning og polering |
Finslibning, sværere |
|
Materiale foreslået |
Ren Niobium (99,95%), Nb-1Zr |
Ren Niobium (99,95%), Nb-1Zr (Specialformål ved høje temperaturer) |
MH Niobium Target Typiske anvendelser
Halvleder tynde film
Superledende niobiumbelægninger
Optiske og dekorative belægninger
Display og elektroniske enheder
Forskning og avancerede funktionelle film
Hvorfor vælge MH Niobium Targets
● Høj renhed og stabil sputterydeevne
● Ensartet mikrostruktur og høj tæthed
● Flere tilgængelige geometrier: rektangulær og rørformet
● Brugerdefinerede dimensioner og limningsløsninger
● Dokumenteret brug i avancerede belægningsapplikationer
Vores niobiumforstøvningsmål leverer pålidelig renhed, ensartet sputteradfærd og filmydeevne af høj-kvalitet til krævende tyndfilmsapplikationer.
MH Niobium Target Custom Manufacturing
Vi tilbyder tilpassede niobium-målløsninger, herunder:
● Ikke-standarddimensioner
● Stram tolerancekontrol
● Særlige overfladebehandlinger
● Applikations-specifikke tekniske krav
Angiv venligst tegninger eller detaljerede specifikationer til evaluering.
Populære tags: niob mål, Kina niob mål producenter, leverandører, fabrik
