Tantalmål

Tantalmål

Tantalmål besidder egenskaber som høj renhed, tæt struktur og god forstøvningsstabilitet, der udviser stabil ydeevne under højvakuum og plasmamiljøer. De tynde film, der er dannet af tantalmål, udviser stærk vedhæftning, god ensartethed og høj kemisk stabilitet, hvilket gør dem meget udbredt i tyndfilmsaflejringsfelter såsom halvledere, integrerede kredsløb, displaypaneler og optiske belægninger.

Produkt introduktion

Vores tantalmål

 

 

Dimension

Diameter 50-400mm X Tykkelse 3-28mm

Grad

R05200 R05400 R05252 (Ta-2,5W) R05255 (Ta-10W)

Renhed

Større end eller lig med 99,95 % (Maksimum 99,99 %)

Omkrystalliser

Minimum 95 %

Kornstørrelse

Minimum 40 um

Overfladeruhed

Maksimal Ra0,4

Fladhed

0,1 mm eller maksimalt 0,10 %

Tolerance

Diameter +/-0,254 mm

 

Fremstillingsproces – Elektronstrålevakuumsmeltning

 

 

Vi anvender elektronstrålevakuumsmeltning (EB) som kernesmeltningsprocessen for tantalbarrer.

Procesfordele:

● Miljø med ultra-højt vakuum minimerer gasforurening

● Overlegen fjernelse af oxygen, nitrogen, brint og metalliske urenheder

● Meget ensartet mikrostruktur og kemisk sammensætning

● Forbedret korrosionsbestandighed og levetid

● Fremragende konsistens mellem batches

Denne proces er især kritisk for applikationer, der kræver høj renhed, langtidsstabilitet og ekstrem korrosionsbestandighed.

 

 

 

Kvalitetskontrol

 

 

Mill Test Certificates (MTC) leveres for hver forsendelse efter anmodning.

  • Kemisk sammensætningsanalyse
  • Mål- og overfladeinspektion
  • Test af mekaniske egenskaber
  • Batchsporbarhed og dokumentation

 

 

 

ba202009161609045005127

product-800-600
product-800-600

 

Populære tags: tantal mål, Kina tantal mål producenter, leverandører, fabrik

Send forespørgsel

whatsapp

Telefon

E-mail

Undersøgelse

taske